艾明坷科技（北京）有限公司

实验室集中供气的优点

1、保持气体纯度

2、不间断气体供应：系统可以以手动方式和自动方式在气瓶之间进行切换，保证气体连续供应

3、低压警示：当气压低于警报限时，报警装置可自动启动报警

4、气体压力稳定：系统采用两级减压方式供气，可得到非常稳定的压力

5、率：通过供气控制系统，可充分使用气瓶中的气体，减少残气余量，降低用气成本

6、操作简便：所有气瓶存放在同一位置，减少搬运安装的操作，节约时间和成本费用

7、无气瓶在实验室：可提高安全性、提高安全感、节省实验室操作空间

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电子特气管道系统氦检漏检测规定

1、氦检漏仪表应采用质谱型氦检测仪，其检测精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特气系统，内向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、阀座测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦检漏发现的泄漏点经修补后，应重新经过气密性试验，合格后再按规定进行氦检漏。所有可能泄漏点应用塑料袋进行隔离。系统测试完毕，应充入高纯氮气，并进行吹扫。测试完毕后，应提交测试报告。

小流量气体净化系统

高纯供气系统主要应用于钢瓶气、管道气及气体发生器等的高纯连续供气，应用于超微量水、氧分析仪、气相色谱仪、常压离子质谱仪等各类气体分析仪器纯化载气或零点气，也可用于超高纯度气体管道安装施工中的吹扫气体，更可以为半导体工艺设备提供超高纯的工艺气体。不应在封闭空间内用惰性气体（如氮气、二氧化碳等）进行实验分析、烧焊、低温冷藏、吹除等等。

气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂，电化学抛光316L不锈钢管件，出气口配置微米过滤器，其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界先进水平。

气体配比仪采用质量流量计，电化学抛光316L不锈钢管件，双卡套或者VCR气体接头。

高纯气体的输送管路系统

随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。高纯气体的输送管路系统随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0。